삼성전자, ASML과 하이나 EUV 전략 협력 확대…2028년 차세대 DRAM 양산에 도입
삼성전자와 ASML이 차세대 반도체 공정의 핵심인 하이나(High NA) EUV 노광 기술 분야에서 전략 협력을 대폭 확대하기로 했습니다. 삼성전자는…
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